光掩膜是什么

光掩膜，也称为光罩，是半导体制造中光刻工艺所使用的图形母版。它由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过曝光将图形转印到产品基板上。光掩膜主要由两部分组成：基板和不透光材料。基板通常是高纯度、低反射率、低热膨胀系数的石英玻璃，而不透光材料可以是铬或钨等金属。

在半导体制造过程中，光掩膜用于将集成电路的图案精确地转移到硅晶片上，对芯片的性能和功能起到关键作用。除了应用于芯片制造，光掩膜也广泛应用于液晶显示器（LCD）和印刷电路板（PCB）等地方。

光掩膜的制造是半导体制造流程中一个造价高昂且技术复杂的环节，它限制了可以制造的最小线宽，是流程中一个关键的衔接部分

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